Sistèm flite à atomizasyon pou Photoresist Rezist kouch

 

 

 

À atomisation par sistèm pou photoresist reziste plak blanch pou photoresist reziste plak blanch se yon metòd altènatif pou file plak blanch. Solisyon photoresist la atomize nan likid gwosè mikromèt atravè vibrasyon ultrasons segondè -frekans, ak Lè sa a, ti gout fotorezist yo depoze sou sifas substra a pou fòme yon fim fotorezist kontinyèl. Se poutèt sa, flite ka kouvri tout sifas la nan nenpòt fòm nan substra ak bay yon kouch konfòm kèlkeswa topoloji a.
Yo nan lòd yo flite photoresist, photoresist la dwe gen yon viskozite ase ba. Anjeneral, ak yon viskozite nan kèk cSt, li ka nesesè yo delye photoresist la ak yon sòlvan. Dilye photoresist ka akselere pwosesis la aje nan photoresist ak fòme patikil nan mwayen an. Yon lòt limit nan flite se ke li difisil yo fòme fim mens ki pi piti pase 1 µ m akòz distribisyon an o aza nan ti gout tonbe sou sifas la. Pou fòme yon fim kontinyèl mens, li nesesè reyalize minimòm dansite ti gout fotorezistans kritik, ki ogmante epesè fim minimòm ak tan pwosesis.

 

 

 

 

 

1. Semiconductor fabrikasyon: Pandan pwosesis fabrikasyon chip la, flite à photoresist ka amelyore presizyon nan pwosesis la fotolitografi.
2. Mikwo nano pwosesis: Kouch fotorezist egzat enpòtan anpil nan fabwikasyon mikrostruktur ak nanostructures.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Baj popilè: ultrasons atomization flite sistèm pou photoresist reziste kouch, Lachin ultrasons atomization flite sistèm pou photoresist reziste kouch manifaktirè, Swèd, faktori