Pwodwi yo

Tipik aplikasyon Semiconductor Wafer Photoresist Kouch ultrasons Buses
video
Tipik aplikasyon Semiconductor Wafer Photoresist Kouch ultrasons Buses

Tipik aplikasyon Semiconductor Wafer Photoresist Kouch ultrasons Buses

Atik No: FSW-3002-L
Frekans: 30khz oswa Customized
Pouvwa: 1-15w
Kantite flite kontinyèl (max): 0.5-20ml / min
Efektif flite lajè: 40-80mm
Inifòmite Flite: Pi gwo pase oswa egal a 95%
Viskozite solisyon: mwens pase oswa egal a 30cps
Patikil atomize (valè medyàn): 10-45μm

 

 Deskripsyon:

 

Bouch atomizasyon gaye ultrasons se yon aparèy bouch ki sèvi ak teknoloji ultrasons konvèti likid nan sibstans ki sou atomize patikil amann. Li anjeneral konsiste de yon dèlko ultrasons, vibrer, ak bouch.
Bouch atomizasyon gaye ultrasons yo lajman ki itilize nan anpil jaden, tankou refwadisman espre, kouch, siye espre, atomizasyon dwòg, jenerasyon aerosol, elatriye Li gen avantaj ki genyen nan konvèsyon efikas, gwosè patikil atomizasyon reglabl, ak operasyon fasil, bay yon mwayen teknik serye pou tretman atomizasyon likid.

 

Prensip:

 

1. Dèlko ultrasons la jenere segondè -endikatè elektrik frekans ak transmèt yo nan vibrer la. Vibrer a konvèti alèt elektrik nan vibrasyon mekanik ki gen gwo frekans.
2. Se Vibration segondè frekans transmèt nan likid la atravè bouch la, blese rapid Vibration mekanik sou sifas la nan likid la.
3. Vibwasyon mekanik sou sifas likid yo lakòz entèraksyon ant molekil likid, sa ki lakòz chanjman nan fòs taye ak tansyon sifas yo.
4. Chanjman nan fòs taye ak tansyon sifas lakòz molekil likid detache sifas likid la, fòme ti gout.
5. Lè sa a, ti gout ti gout yo pote lwen bouch la pa airflow oswa lòt fòs ekstèn, fòme yon amann patikil atomize sibstans.

 

Paramèt:

 

FSW-3002-L

 

1

Karakteristik:

 

1. reglabl gwosè patikil atomizasyon: Pa ajiste paramèt tankou frekans ultrasons, anplitid, ak pwopriyete likid, mezi a patikil atomizasyon ki te pwodwi pa vle di nan bouch la atomizasyon ka kontwole, sòti nan kèk mikromèt ak dè dizèn de mikromèt.

2. Konvèsyon efikas: Bouch atomizasyon gaye ultrasons gen twòp efikasite konvèsyon elektrisite, sa ki ka konvèti pi fò nan antre nan pouvwa elektrik nan enèji vibrasyon mekanik, kidonk amelyore efikasite k ap travay nan bouch la.

3. pa vle pou ajoute compressés de lè: konpare li a nòmal compressés aeryen atomisation buses, à par atomisation buses koulye a pa mande supplémentaires compressés lè ekipman, bese electricityconsumption ak konpleksite operasyonèl.

4. fèt nan Kiba pou jan sa dwe fèt yon kantite likid: à par atomisation buses a apwopriye pou yon varyete likid, tankou dlo, solisyon, sispansyon, elatriye, e li gen bon adaptation ak jaden lojisyèl gwo.

 

 

Ultrasonic Spray Coated Machine 3

 

Aplikasyon:

 

Ultrasonic Spray Coating Application 12
Ultrasonic Spray Coating Application 10
 
 
product-567-378
product-567-378

 

Sètifikasyon

 

image014001

 

 

Laboratwa nou an

 

product-1200-800
product-1200-800

 

Liy pwodiksyon nou an

 

image018001001
image020001
image022001001

 

Anbalaj & livrezon

 

1 1001
2 1001
3 1001
1 2001
2 2001
3 2001

 

Ekip nou an

 

MTXXMH20240126222924157001

 

Egzibisyon konpayi

 

2024 1001
product-800-600
product-800-600
product-800-600
product-800-600
product-800-600

 

Baj popilè: tipik aplikasyon semiconductor wafer photoresist kouch à buses, Lachin aplikasyon tipik semiconductor wafer photoresist plak blanch à buses manifaktirè yo, ke founisè, faktori

Ou ka renmen tou

(0/10)

clearall